LASTRINSE

LASTRINSE

XZERO har patentsökt en teknik som effektivt avlägsnar alla föroreningar, även de minsta nanopartiklar under 20 nanometer som inte går att avlägsna med existerande metoder. Det kommer att minska kassationsprocenten och öka lönsamheten. Den första produkten heter LastRinse.

Som en allmän riktlinje används 30 – 40 liter renvatten per dag. Användningen inom nanoelektronik (halvledarindustrin) över hela världen är flera miljarder liter per dag. Det totala antalet internationella tillverkare är några hundra. Var och en kan ha flera fabriker på olika platser.

LastRinse erbjuder följande
Lägre kostnad
Mindre underhåll
Kompromisslös renhet
Möjlighet till nollutsläpp

450 mm wafer

Electron microscope image of a contaminated IC, magnified 7500 times

A typical sterile environment of built-in “wet-bench” for wafer rinsing

Chip after cutting of wafer

Chip after mounting