Ultrarent vatten

Denna provanläggning har testas på Sandia National Laboratories i Albuquerque, New Mexico, USA

Projektet har utförts på uppdrag av SEMATECH.

Bakgrund

Halvledarindustrin tillverkar processorer och minnen för elektronikindustrin. Vid tillverkningen av minnen och processorer mäts toleranserna i nanometer.

För att inte få störningar och föroreningar i processerna måste man ha avancerade renrum och ett absolut rent processvatten – ultrarent vatten, UPW – Ultra Pure Water.

Under tillverkningen av halvledare (processorer och minnen), även kallade datachips, måste dessa sköljas minst 100 gånger. Med nuvarande teknik renas sköljvattnet i 15-20 olika steg innan det blir tillräckligt rent för att kunna användas. Förbrukningen av ultrarent vatten i en sådan fabrik ligger på mellan 2 och 4,8 miljoner liter per dygn.

I Xzeros system avlägsnas först flyktiga föroreningar från vattnet genom avgasning. Därefter förångas vattnet genom ett vattentätt membran. De icke-flyktiga föroreningarna blir kvar i ett koncentrat som kan indunstas. Systemet är enklare och effektivare än andra system.

Se Information om halvledare för en detaljerad beskrivning av halvledartillverkning.